新一代高频电源
表面的涂层或结构化的关键在于稳定和可重复的等离子体电源。采用现代电力电子技术的 TruPlasma RF 1000 / 3000 (G2/13) 系列高频电源为此提供最佳前提条件:得益于其稳定的输出功率与高调节精度,实现高生产效率的同时可确保最佳结果。
CombineLine 技术:凭借 50 欧姆的真实输出阻抗获得最佳工艺流程功率。
无需适配电缆长度——高频范围内绝无仅有的创举!
CombineLine 技术:失调情况下可靠避免反射功率影响。
高达 80 % 的能量转换率能够缩减最多 50 % 的能源成本。
外界空气既不会升温也不会受到污染,因此可实现无尘室内运行。
纯平显示屏镀膜的理想之选
TruPlasma RF 1000 / 3000 (G2/13) 系列高频电源理想适用于 RIE(反应离子刻蚀)、ALD(原子层沉积)、PECVD(等离子体增强化学气相沉积)和射频溅镀法等等离子体工艺流程。这些工艺主要应用于制造半导体元件和微机械系统 (MEMS) 以及平板显示器和太阳能电池的涂层。
典型应用领域:太阳能行业
TruPlasma RF 1000 / 3000 (G2/13) 系列的典型应用领域是太阳能行业中要求严苛的 PECVD(等离子体增强化学气相沉积)、刻蚀及高频溅射等工艺。
半导体制造
在半导体制造中,使用不同等离子体工艺,包括通过干法刻蚀的材料去除工艺和用于制备纯硅的区熔法。TruPlasma RF 1000 / 3000 (G2/13) 系列电源为最佳适配相应工艺的稳定供电系统提供一切前提条件,从而取得出色的可再现结果。
优化适配您的进程
TruPlasma RF 1000 / 3000 (G2/13) 系列的智能实时匹配确保快速直接的 50 欧姆阻抗适配。通过已获专利的 CombineLine 技术可靠防止等离子体波动和污染,而无风扇冷却设计则降低故障率,提高效率,并实现无尘室内使用。
最高效率与灵活性
得益于高达 80 % 的能量转换率,与常规发生器相比,可将您的能源成本降低最多 50 %。众多可用接口(可配置模拟接口、RS 232/485、DeviceNet、PROFIBUS、EtherCAT)简化现有设备中的集成,得益于内置的超宽范围电源(200-480 VAC)无需技术适配。高功率密度的紧凑结构形式(19 英寸或 ½-19 英寸插入式装置)允许以节省空间的方式集成至任一生产设备中。
通快 SystemPort
SystemPort 通过直接测量阻抗匹配器输入端和输出端上的 RF 信号,形成闭环控制回路。RF 电源可使用所有测量值。由此实现更好的工艺流程参数监测,保护阻抗匹配器并确保及早识别电弧。可通过单一的电源接口控制整个 RF 系统。
各种选项可以实现高频电源根据应用进行最佳适配。
已获专利的自动频率调谐解决方案能够快速同步适配频率,确保电源与阻抗匹配器之间的最佳协作。凭借已获专利的该项技术,局部最小化已非阻碍:RF 系统达到最佳状态,从而实现最佳工艺流程结果和高度可重复性。
精湛的电弧管理是适用于最佳等离子体工艺流程控制的理想模块。有针对性的电弧识别确保高生产效率,同时保护产品与设备。
通快 RF 系统的所有组件相互最佳协调。
彼此完美协调:通快 RF 系统
等离子体工艺就像一个复杂可变的负载,必须通过发生器为其不断供电。这项工作由有源匹配网络(所谓的阻抗匹配器)来完成,确保随时精确匹配 50 Ω 的最佳阻抗。由此形成相互完美协调的系统解决方案——通快 RF 系统。通过不同接口(如 EtherCAT)可十分轻松地将电源和阻抗匹配器集成至现有工艺环境之中,并通过电源与阻抗匹配器的智能连接(即所谓的 SystemPort)形成经优化的系统解决方案。
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