可靠处理苛刻工艺
TruPlasma DC 4000 (G2) 系列专为困难材料的直流反应溅射而开发。以脉冲式直流电工作的该款发生器经受住尤为严苛的 PVD （物理气相沉积）和 PECVD （等离子体增强化学气相沉积）工艺的考验，这些工艺对涂层质量与生产效率均有极高要求。紧凑型直流电源可在脉冲与偏压模式下使用——亦即两种设备集于同一外壳！
数字化信号处理确保工艺稳定并将受电弧限制的时间损失最小化。
快速电弧处理与直流脉冲技术相结合，将基板损坏最小化。
得益于宽泛的频率范围和可调反向电压。
集成水冷装置节省空间，减少维护工作。
硬质镀膜
通过施加功能性涂层，承受强大负荷的工件获得更高的表面硬度和静摩擦力以及更好的热稳定性与化学稳定性。TruPlasma DC 4000 (G2) 系列脉冲式发生器实现稳定的等离子体工艺和最佳涂层质量。
金属喷镀
借助 PVD 工艺可将薄如蝉翼的金属涂层施加到不同材料上，以赋予其最佳光学与电气特性。与工艺参数最佳适配的电源实现绝对均匀、毫无缺陷的涂层沉积。
太阳能电池制造
为了影响其电气特性，需要给太阳能电池、纯平显示屏及触摸屏镀膜导电材料 (TCO)。TruPlasma DC 4000 (G2) 系列脉冲式发生器的电弧能量极少，特别适合此类应用。
建筑玻璃
在 PVD 等离子体工艺中，大面积建筑玻璃镀膜对工艺电源提出了极高要求。TruPlasma DC 4000 (G2) 系列脉冲式发生器为取得高质量的镀膜成果提供理想前提。
出色的涂层质量和生产效率
快速电弧处理与直流脉冲技术相结合使微滴率降低且表面缺陷减少。受电弧限制的工艺中断降到最少，沉积速率显著提高。
灵活适配工艺
可在宽泛的范围内调整脉冲频率，直流发生器还配备偏压模式。借此可将同一台设备用于众多应用。精心设计的监控工具支持您优化工艺。
不同选项让脉冲式直流电源以最佳方式适配您的应用。
多台 TruPlasma DC 4000 (G2) 系列直流电源可同步运行。对于指向不同目标的多台电源，该模式能够实现电弧同步识别。脉冲模式也可同步。
PVD Power
多语种软件 PVD Power 用户界面易操作，提供多方面的操作、配置及诊断方法，以此优化工艺质量和有效排除故障：显示所有相关工艺参数的实际值以及警告和报警消息、由操作员规定目标值和以较高的时间分辨率记录重要运行参数并进行可视化（示波器功能）。
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