等离子体激发

TruPlasma DC 4000 (G2) 系列

脉冲式工艺确保光亮表面

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可靠处理苛刻工艺

TruPlasma DC 4000 (G2) 系列专为困难材料的直流反应溅射而开发。以脉冲式直流电工作的该款发生器经受住尤为严苛的 PVD (物理气相沉积)和 PECVD (等离子体增强化学气相沉积)工艺的考验,这些工艺对涂层质量与生产效率均有极高要求。紧凑型直流电源可在脉冲与偏压模式下使用——亦即两种设备集于同一外壳!

出色的涂层质量和生产效率

数字化信号处理确保工艺稳定并将受电弧限制的时间损失最小化。

即便工艺条件严苛,也能实现最佳结果

快速电弧处理与直流脉冲技术相结合,将基板损坏最小化。

轻松适配工艺

得益于宽泛的频率范围和可调反向电压。

紧凑又坚固的结构

集成水冷装置节省空间,减少维护工作。

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