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セラミック加工

セラミックのマイクロ加工

セラミックはマイクロ/精密技術にとって重要な素材であり、エレクトロニクス部品の製造などでは不可欠です。この素材に対する要件は厳しくなっており、硬さと耐熱性の向上が求められています。しかしセラミックは硬さが増すにつれて脆くなるため、従来の製造方法では極めて加工しにくい素材です。亀裂や応力による部品強度の低下を防止するために、機械式プロセスでは加工速度を落とします。ツールはすぐに摩耗し、優れた部品品質を得るには多くの場合手間のかかる後処理が必要です。それに対して、レーザによる加工には明らかな利点があります。

総括:パルスエネルギー、パルスオーバーラップ率や繰り返し率などのレーザパラメータを適切に選択することで、極小亀裂の発生が防止され、手間のかかる後処理が不要になります。

       
材料 セラミック    
従来のプロセス 機械式CO2レーザ    
課題 損傷の少ない加工    
レーザ TruMicro 6020    
波長 1030 nm    
光学システム スキャナー    
最大パルスエネルギー < 500 µJ(アプリケーション)
2 mJ(レーザ)
   
加工方法

穴あけ < 20穴
切断 / 最大 < 20 mm/s
彫刻 < 1000 mm/s

   
利点 損傷の少ない加工、後処理なし、加工が非接触式であるためツールの摩耗なし、ごくわずかの補正で任意の形状が可能、柔軟性    

製品

TruMicro 6000シリーズ、製品画像
TruMicro 6000シリーズ

高性能、コンパクト、フレキシブル

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