Länder-/Regionen- und Sprachauswahl
Artikelsammlung für EUV-Lithographie

Im Spiegel der Medien: EUV-Lithografie

Die extrem ultraviolette Strahlung (EUV) zur Wafer-Belichtung ist ohne Zweifel das Zukunftsthema in der Chipindustrie. Kein Wunder, dass sich nicht nur die Fach-, sondern auch die Publikumspresse in regelmäßigen Abständen dem Thema widmet und die Entwicklung der Technologie verfolgt. Eine Zusammenstellung einiger nationaler und internationaler Highlight-Artikel finden Sie auf diese Seite.

Die Schwaben spielen eine entscheidende Rolle im globalen Chipgeschäft

Dieser Bericht des Handelsblatts ist anlässlich der im Mai 2019 veranstalteten, gemeinsamen Pressereise von TRUMPF, Zeiss und ASML entstanden. Die Autoren beleuchten die Zusammenarbeit der Partner, zeichnen die Entwicklung von EUV nach und geben mit Zitaten, unter anderem von Peter Leibinger, Chief Technologie Officer bei TRUMPF, Einblicke in das Potenzial der Zukunftstechnologie.

Quelle: Handelsblatt
Autor: Martin-W. Buchenau, Joachim Hofer
Erscheinungsdatum: 05/2019
Link: zum Artikel

ASML's EUV systems pattern new Samsung and TSMC chips

Die News auf optics.org berichtet, dass trotz zunehmender, makroökonomischer Unsicherheiten die Nachfrage nach Lithografiesystemen von ASML konstant bleibt. Schlüsselkunden wie Samsung und TSMC geben ihre Pläne für den Einsatz von EUV-Systemen in der zukünftigen Produktion von Chips bekannt. Diese werden für neue Anwendungen in den Bereichen 5G, künstliche Intelligenz, Hochleistungsrechnen und Automotive dringend gebraucht – wie Charlie Bae von Samsung schon lange vorhergesagt hat.

Quelle: www.optics.org
Autor: n.N.
Erscheinungsdatum: 04/2019
Link: zum Artikel

Samsungs 5-nm-EUV-Prozess ist bereit

In diesem Artikel auf Golem.de berichtet Autor Marc Sauter, dass Samsung Foundry die Entwicklung des 5-nm-Verfahrens mit extrem ultra-violetter Strahlung (EUV) abgeschlossen hat und ab sofort Aufträge von Kunden entgegen nimmt. Mit dem neuen Verfahren kann die Transistordichte um 25 % gesteigert werden und gleichzeitig weisen die Chips eine 20 % geringere Leistungsaufnahme bzw. eine 10 % höhere Rechenleistung auf.

Quelle: www.golem.de
Autor: Marc Sauter
Erscheinungsdatum: 04/2019
Link: zum Artikel

Samsung fertigt 7-Nanometer-Chips mit EUV-Belichtern

Heise.de berichtet in diesem Artikel, dass Samsung im Herbst 2018 die Produktion in seiner ersten 7-nm-Fabrik aufgenommen hat und dort Wafer mit dem EUV-Lithografiesystem von ASML belichtet.

Quelle: www.heise.de
Autor: Nico Ernst
Erscheinungsdatum: 10/2018
Link: zum Artikel

Vor der Zeit

Der TRUMPF Geschäftsbericht 2017/2018 beleuchtet, wie die Beherrschung des Lichts - und damit auch der Laser und die EUV-Lithografie - die Grundlage für Zukunftstechnologien wie Künstliche Intelligenz, autonomes Fahren und vernetzte Fabriken liefert.

Quelle: TRUMPF Geschäftsbericht GJ 2017/2018
Autor: TRUMPF GmbH + Co. KG
Erscheinungsdatum: 10/2018
Link: zum Artikel

 

Verfügbarkeit von EUV-Scannern auf 85 Prozent gesteigert

Der Artikel auf golem.de kündigt an, dass ASML seine NXW:3400B-Systeme so maßgeblich verbessert hat, dass die kosten- und zeiteffiziente Serienfertigung mit extrem ultravioletter Strahlung in greifbare Nähe rückt.

Quelle: www.golem.de
Autor: Marc Sauter
Erscheinungsdatum: 07/2018
Link: zum Artikel

The secret of EUV generation

LaserFocusWorld zeichnet in diesem Artikel die mehr als zwanzigjähre Entwicklung der EUV-Technologie nach und beschreibt die zahlreichen Hürden und Herausforderungen, die bis zum Durchbruch im Jahr 2015 gemeistert werden mussten.

Quelle: LaserFocusWorld
Autor: Andreas Thoss
Erscheinungsdatum: 11/2017
Link: zum Artikel

TRUMPF consolidates EUV lithography supply chain with Access Laser deal

Dieser Bericht in der Fachzeitschrift "Produktion" befasst sich mit der Mehrheitsübernahme von Access durch TRUMPF. Als Hersteller von Low-Power-CO2-Lasern ist Access Laser einer der wichtigsten Partner im EUV-Geschäft von TRUMPF.

Quelle: www.optics.org
Autor: n.N.
Erscheinungsdatum: 10/2017
Link: zum Artikel

TRUMPF will die Chipindustrie aufmischen

Die Stuttgarter Zeitung berichtet, wie TRUMPF mit seinem Laser Amplifier als Zulieferer in die Halbleiterindustrie einsteigt und für das Geschäft eine neue Tochter gegründet hat.

Quelle: Stuttgarter Zeitung
Autor: Michael Heller
Erscheinungsdatum: 05/2017
Link: zum Artikel

EUV ist in der IC-Fertigung angekommen

Der Artikel in der Wochenzeitung für Elektronik "Markt&Technik" fasst aktuelle und geplante Umsatz- und Absatzzahlen von ASML zusammen, die belegen, dass die EUV-Lithografie nun endgültig in der Industrie angekommen ist.

Quelle: Markt&Technik
Autor: Heinz Arnold
Erscheinungsdatum: 07/2017
Link: zum Artikel

Diese Themen könnten Sie auch interessieren

TRUMPF Laser Amplifier zur Herstellung von Hochleistungschips
TRUMPF Laser Amplifier

Der TRUMPF Laser Amplifier liefert Laserpulse, die Grundlage für die Fertigung künftiger Mikrochips sind. Erfahren Sie mehr über das hochtechnologische CO2-Lasersystem. 

Chips hergestellt mit TRUMPF Laser Amplifier
EUV-Lithografie

Ohne extrem ultraviolettes Licht - keine modernen Computerchips. Welche Rolle CO2-Hochleistungslasersysteme von TRUMPF bei der Erzeugung der Halbleiterstrukturen spielen, lesen Sie hier.

CO2-Laser

Extrem zuverlässig, auch wenn es mal robuster zugeht - die TruFlow CO2-Laser von TRUMPF schneiden und schweißen in Werkshallen rund um den Globus.

Kontakt
Hochleistungslasersysteme EUV-Lithografie
E-Mail
Service & Kontakt